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Technical articles2026
1-21薄膜制備小型磁控濺射儀的結(jié)構(gòu)組成及特性分析
薄膜制備技術(shù)在現(xiàn)代材料科學(xué)和工程中占據(jù)著重要地位，尤其是在電子器件、光電器件及傳感器等領(lǐng)域。磁控濺射是一種廣泛應(yīng)用于薄膜制備的物理氣相沉積（PVD）方法，其優(yōu)點...2025
12-17小功率冷卻水循環(huán)機的結(jié)構(gòu)組成及常見應(yīng)用
小功率冷卻水循環(huán)機是一種在實驗室、工業(yè)和商業(yè)應(yīng)用中廣泛使用的設(shè)備。它的主要功能是提供穩(wěn)定的冷卻水流，以維持設(shè)備或?qū)嶒灥臏囟龋_保其正常運行。基本工作原理是通過壓...2025
11-20光纖鍍膜小型離子濺射儀的主要組成部分及其應(yīng)用
光纖鍍膜小型離子濺射儀是一種專用于光纖表面涂層和薄膜沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于光電子、通訊、光學(xué)、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。離子濺射技術(shù)利用高能離子轟擊靶材，通過濺射效應(yīng)使靶材...2025
10-23薄膜制備小型磁控濺射儀的具體工作過程分析
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進行薄膜制備的實驗室設(shè)備。磁控濺射技術(shù)是一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，通過高能粒子撞擊靶材，將靶材原子或分子...2025
9-17薄膜制備小型磁控濺射儀的工作原理及設(shè)計要點
磁控濺射是利用磁場增強的濺射效應(yīng)來制備薄膜的一種物理氣相沉積（PVD）方法。其基本原理是通過電場將離子加速，撞擊靶材表面，導(dǎo)致靶材原子或分子濺射出來，并沉積到基...2025
8-20低溫濺射小型磁控濺射儀的操作注意事項
低溫濺射小型磁控濺射儀是一種物理氣相沉積（PVD）技術(shù)，利用高能粒子轟擊靶材（一般是金屬或合金）表面，使靶材原子脫離并在基底表面沉積成薄膜。磁控濺射是在傳統(tǒng)濺射...2025
7-16桌面型小型離子濺射儀：高效薄膜沉積的新選擇
離子濺射是一種基于離子與固體表面碰撞的物理過程。當高能離子（如氬離子）轟擊靶材表面時，靶材中的原子或分子受到?jīng)_擊力從表面彈出，產(chǎn)生濺射效應(yīng)。濺射出的原子或分子會...2025
6-17冷濺射小型磁控濺射儀具有良好的濺射過程控制能力
冷濺射小型磁控濺射儀是一種用于薄膜材料沉積的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體工業(yè)、光電器件制造等領(lǐng)域。具有高精度、高沉積速率、低溫沉積等優(yōu)點，并能夠在不加熱基材...推薦產(chǎn)品
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